Siliciumtetrafluorid
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| Strukturformel | |||||||||
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| SiF4 | |||||||||
| Allgemeines | |||||||||
| Name | Siliciumtetrafluorid | ||||||||
| Andere Namen | Silicium(IV)-fluorid | ||||||||
| Summenformel | SiF4 | ||||||||
| CAS-Nummer | 7783-61-1 | ||||||||
| Kurzbeschreibung | - | ||||||||
| Eigenschaften | |||||||||
| Molmasse | 104,1 g/mol | ||||||||
| Aggregatzustand | gasförmig | ||||||||
| Dichte | 4,37 g/mL @ 25 °C | ||||||||
| Schmelzpunkt | - | ||||||||
| Siedepunkt | -95,2 °C | ||||||||
| Dampfdruck | 25·105 Pa (-15 °C) | ||||||||
| Löslichkeit | gut löslich in Wasser (unter Zersetzung) | ||||||||
| Sicherheitshinweise | |||||||||
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| R- und S-Sätze | R:14-23-35 S:9-26-36-45 |
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| MAK | - | ||||||||
| Soweit möglich und gebräuchlich, werden SI-Einheiten verwendet. Wenn nicht anders vermerkt, gelten die angegebenen Daten bei Standardbedingungen. | |||||||||
Siliciumtetrafluorid (SiF4), eine Siliciumverbindung, ist ein farbloses giftiges unbrennbares Gas. Es hat einen stechenden Geruch und ist bei Feuchtigkeit stark rauchend. Es wechselt beim Abkühlen durch Sublimation von der gasförmigen Phase direkt in die feste Phase. Das Gas ist ab einem Druck von 50 at verflüssigbar.
Inhaltsverzeichnis |
[Bearbeiten] Herstellung
[Bearbeiten] Verfahren 1
Hergestellt wird es aus Calciumfluorid und Siliciumdioxid (Sand) mit konzentrierter Schwefelsäure. Folgende Reaktionen laufen ab: Umsetzung von Fluorit zur Fluorwasserstoff
Der Fluorwasserstoff reagiert dann mit dem SiO2
Unter Säureüberschuß wird die Hydrolysierung des SiF4 verhindert.
Das so erhaltene SiF4 ist allerdings nur 80 - 90 prozentig. Es enthält sauerstoffhaltige Produkte wie F3Si-O-SiF3 oder F3Si-O-SiF2-O-SiF3. Beim Transport von SiF4 in Pipelines zerfallen diese Moleküle in SiF4 und SiO2. Dabei setzt das SiO2 die Rohrleitungen zu. Die chemische Industrie hatte das Verfahren des Transportes von SiF4 in Pipelines anstelle der gefährlicheren HF entwickelt, um entferntere Produktionsstätten per Pipeline mit Fluoriden zu versorgen. Aufgrund der geschilderten Probleme fand dieses Verfahren jedoch keine Verbreitung.[1]
[Bearbeiten] Verfahren 2
Beim Erhitzen von Bariumfluorosilikat entsteht SiF4:
![\mathrm{Ba[SiF_6] \rightarrow BaF_2 + SiF_4}](../../../math/f/6/4/f648d1e994b7ad1c095688a43730b551.png)
[Bearbeiten] Anwendungen
In der Halbleiterindustrie wird es zum Entfernen von SiO2 Schichten auf Wafern benutzt.
[Bearbeiten] Quellen und Literatur
- ↑ W. Legat, Dissertation 1978, Giessen
