フォトマスク
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フォトマスク(Photo Mask)とは、半導体素子製造過程で用いる原板。ガラス基板上に回路パターンが描画されて おり、主に光によって、半導体ウェハー上に塗布されたレジストにパターンを転写し、その後エッチングなどの工程を経てウェハー上に目的とするパターンを形成する。
[編集] 概要
フォトマスクに使う基盤は通常、石英ガラスが使用され、その上にクロムでパターンが作られる。 フォトマスクは製造しようとする素子の各層毎に作られる。 製造には電子ビーム露光装置などが用いられる。
半導体製造工程ではステッパーによりウェハー上を移動しながら露光され 複数個の素子のパターンが転写される。 露光は1:1サイズであったが集積度の向上により、4~5倍のサイズで作られたマスクを縮小露光することが多くなった。
量産工程で用いられるマスクのより正しい用語はレチクルである。
[編集] 主なメーカー
- 大日本印刷
- 凸版印刷
- HOYA
- デュポン
- SKエレクトロニクス
- ミタニマイクロニクス