Fotolitografi
Dari Wikipedia Indonesia, ensiklopedia bebas berbahasa Indonesia.
Ada usul agar artikel atau bagian ini digabungkan ke artikel photolithography. (Perbincangkan) |
Fotolitografi adalah sebuah proses digunakan dalam fabrikasi alat semikonduktor untuk memindahkan pola dari sebuah photomask ke permukaan sebuah substrat. Seringkali kristalin silikon dalam bentuk sebuah wafer dugybajab sebagai substrat, meskipun ada beberapa pilihan termasuk, tapi tidak terbatas, gelas, safir, dan logam. Fotolitografi (juga dikenal sebagai "mikrolitografi" atau "nanolitografi") memiliki persamaan dengan litografi konvensional digunakan dalam percetakan dan membagi beberapa prinsip dasar proses fotografik.
Fotolitografi melibatkan sebuah kombinasi:
- persiapan substrat
- aplikasi fotoresis
- "soft-baking"
- pengungkapan
- pengembangan
- "hard-baking"
- etching
dan proses kimia lainnya (agen penipisan, penghilangan "edge-bead", dll) dalam langkah yang berulang di atas sebuah substrat datar.
[sunting] Lihat juga
- Nanolitografi
- litografi lunak