Kiselkarbid
Wikipedia
Kiselkarbid, SiC, förening som på grund av sin hårdhet används som slipmedel och på grund av sin eldfasthet som material i deglar och ugnar. Det används även som elektriskt motståndsmaterial.
[redigera] HTCVD - High Temperature Chemical Vapor Deposition
Kiselkarbid används där man behöver ett halvledarmaterial som tål höga spänningar, strömstyrkor och frekvenser. Materialet används bland annat i högspänningsanläggningar och i mobiloperatörernas basstationer.
En metod för att tillverka kiselkarbid med hög renhet har utvecklats vid Linköpings universitet i samarbete med ABB - (HTCVD-metoden). Metoden, (High Temperature Chemical Vapor Deposition), bygger på att man blandar kisel och kol i gasform till skillnad från den gängse metoden där man blandar kisel och kol i pulverform. Tillväxten sker vid 2000 °C. I processen används kisel i form av silan, kolvätet etan, klorgas och väteklorid.
- Man har goda skäl att tro att kiselkarbid i denna nya form kommer att bli ett basmaterial inom elektronikindustrin.
- Genom sin höga renhet kommer kiselkarbiden att medverka till miljövinster eftersom materialet effektiviserar elektroniken och energiöverföringen.
Kiselkarbid går även under namnet carborundum eller karborundum
